E11600 - SEMI E116 - 装置性能トラッキング（EPT）のための仕様 Revision:SEMI E116-0707E - Superseded 1が新たに作成されたことを反映して，0307の出版サイクルで更新された。

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8 — Guide for High Purity and Ultrahigh Purity Gas Distribution Systems in Semiconductor Manufacturing Equipment

The specified cast silicon wafer includes cast silicon category I wafer and cast silicon category II wafer

SEMI D57 — Definition of Measurement Index (VCT) for Mura in FPD Image Quality Inspection

and limits of variation

E11600 - SEMI E116 - 装置性能トラッキング（EPT）のための仕様 Revision:SEMI E116-0707E - Superseded 1が新たに作成されたことを反映して，0307の出版サイクルで更新された。NOTICE: This translation is a REFERENCE COPY ONLY. If differences should exist between the English version and a translation in any other language, the English version is the official and authoritative version. SEMI SEMI E 20079R1 13 300 mmEPT EPTEPTEPTEPTMES: Manufacturing Execution SystemSEMI E10SEMI E79EPT (EPT: Equipment Performance Tracking) EPT SEMI E10SEMI E58 SEMI E58SEMI E58SEMI E10 SEMI E10SEMI E79SEMI E10SEMI E79EPTSEMI E10SEMI E79EPTSEMI